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在光电显示领域，其液晶品种从TN→STN→TFT的逐步升级；从黑白到彩色，从低分辨率向高分辨率，从小屏幕到大屏幕的发展已成为必然趋势。原有的超声、化学清洗已不能满足当前清洗洁净度要求。基本原理与传统的清洗技术如化学法、物理法（例超声波）不同，与新近发展的等离子体清洗、激光清洗等也有较大不同。主要是应用光化学原理与技术，技术关键在于特种大功率短波紫外、真空紫外光源。其原理为利用光子能量将有机物的高分子链、大分子链，断裂成小分子、原子、自由基等；及将空气中的氧分子变成臭氧O3。O3再经光子的作用产生激态氧原子O*，O*将断裂后的有机物质强氧化变成CO, CO2,H2O等挥发，随排气并排出，不留任何痕迹，属干式法，无接触型；常温、常气压下无损伤，不使用任何化学药品，环保无二次污染；对物体表面的难清洗的油脂及有机污染物有特殊清洗效果。大功率特种专用紫外光源是其中的关键技术，其波长已延伸到真空紫外波段.我公司经几年攻关已完成多项专利技术，如：真空紫外光谱仪，大功率热、冷阴极光清洗机专用光源，清洗效果测试设备等。我公司的光清洗机系列产品，主要创新点是：宽温区恒照度、大功率紫外光源、优化气氛控制的自控系统、自动化程度高、自净化设计等。具有，工作稳定，利用光子作用实现了对污染物的分解、氧化、气化，并被排除. 本产品除用于液晶生产中需清洗的各道工序外，还有十分广泛的领域如：ITO玻璃、光学玻璃、铬板、掩膜板、抛光石英晶体、硅晶片和带有氧化膜的金属等进行精密清洗处理，在液晶显示器件、半导体硅晶片、集成电路、高精度印制电路板、光学器件、石英晶体、密封技术、带氧化膜的金属材料等领域。
